ಸಿಲಿಕಾನ್ 8-ಇಂಚಿನ ಮತ್ತು 6-ಇಂಚಿನ SOI (ಸಿಲಿಕಾನ್-ಆನ್-ಇನ್ಸುಲೇಟರ್) ವೇಫರ್‌ಗಳ ಮೇಲಿನ SOI ವೇಫರ್ ಇನ್ಸುಲೇಟರ್

ಮೇಲಿನ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಪದರ, ನಿರೋಧಕ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪದರ ಮತ್ತು ಕೆಳಗಿನ ಸಿಲಿಕಾನ್ ತಲಾಧಾರವನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಮೂರು-ಪದರದ SOI ವೇಫರ್ ಮೈಕ್ರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್ ಮತ್ತು RF ಡೊಮೇನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಸಾಟಿಯಿಲ್ಲದ ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ. ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಸ್ಫಟಿಕದಂತಹ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಅನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಮೇಲಿನ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಪದರವು ಸಂಕೀರ್ಣ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಘಟಕಗಳ ಏಕೀಕರಣವನ್ನು ನಿಖರತೆ ಮತ್ತು ದಕ್ಷತೆಯೊಂದಿಗೆ ಸುಗಮಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಪರಾವಲಂಬಿ ಧಾರಣಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ನಿಖರವಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾದ ನಿರೋಧಕ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಪದರವು ಅನಗತ್ಯ ವಿದ್ಯುತ್ ಹಸ್ತಕ್ಷೇಪವನ್ನು ತಗ್ಗಿಸುವ ಮೂಲಕ ಸಾಧನದ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ಕೆಳಗಿನ ಸಿಲಿಕಾನ್ ತಲಾಧಾರವು ಯಾಂತ್ರಿಕ ಬೆಂಬಲವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ಸಿಲಿಕಾನ್ ಸಂಸ್ಕರಣಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ.

ಮೈಕ್ರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್‌ನಲ್ಲಿ, SOI ವೇಫರ್ ಉನ್ನತ ವೇಗ, ವಿದ್ಯುತ್ ದಕ್ಷತೆ ಮತ್ತು ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹತೆಯೊಂದಿಗೆ ಸುಧಾರಿತ ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳ (ICs) ತಯಾರಿಕೆಗೆ ಅಡಿಪಾಯವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ. ಇದರ ಮೂರು-ಪದರದ ವಾಸ್ತುಶಿಲ್ಪವು CMOS (ಕಾಂಪ್ಲಿಮೆಂಟರಿ ಮೆಟಲ್-ಆಕ್ಸೈಡ್-ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್) ICs, MEMS (ಮೈಕ್ರೋ-ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋ-ಮೆಕ್ಯಾನಿಕಲ್ ಸಿಸ್ಟಮ್ಸ್) ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಧನಗಳಂತಹ ಸಂಕೀರ್ಣ ಅರೆವಾಹಕ ಸಾಧನಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯನ್ನು ಶಕ್ತಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.

RF ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ, SOI ವೇಫರ್ RF ಸಾಧನಗಳು ಮತ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳ ವಿನ್ಯಾಸ ಮತ್ತು ಅನುಷ್ಠಾನದಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ. ಇದರ ಕಡಿಮೆ ಪರಾವಲಂಬಿ ಧಾರಣ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ಥಗಿತ ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಮತ್ತು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಇದನ್ನು RF ಸ್ವಿಚ್‌ಗಳು, ಆಂಪ್ಲಿಫೈಯರ್‌ಗಳು, ಫಿಲ್ಟರ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಇತರ RF ಘಟಕಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ತಲಾಧಾರವನ್ನಾಗಿ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಹೆಚ್ಚುವರಿಯಾಗಿ, SOI ವೇಫರ್‌ನ ಅಂತರ್ಗತ ವಿಕಿರಣ ಸಹಿಷ್ಣುತೆಯು ಕಠಿಣ ಪರಿಸರದಲ್ಲಿ ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹತೆಯು ಅತ್ಯುನ್ನತವಾಗಿರುವ ಏರೋಸ್ಪೇಸ್ ಮತ್ತು ರಕ್ಷಣಾ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.

ಇದಲ್ಲದೆ, SOI ವೇಫರ್‌ನ ಬಹುಮುಖತೆಯು ಫೋಟೊನಿಕ್ ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳು (PIC ಗಳು) ನಂತಹ ಉದಯೋನ್ಮುಖ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳಿಗೆ ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತದೆ, ಅಲ್ಲಿ ಒಂದೇ ತಲಾಧಾರದ ಮೇಲೆ ಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಘಟಕಗಳ ಏಕೀಕರಣವು ಮುಂದಿನ ಪೀಳಿಗೆಯ ದೂರಸಂಪರ್ಕ ಮತ್ತು ದತ್ತಾಂಶ ಸಂವಹನ ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳಿಗೆ ಭರವಸೆಯನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.

ಸಂಕ್ಷಿಪ್ತವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಮೂರು-ಪದರದ ಸಿಲಿಕಾನ್-ಆನ್-ಇನ್ಸುಲೇಟರ್ (SOI) ವೇಫರ್ ಮೈಕ್ರೋಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್ ಮತ್ತು RF ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಲ್ಲಿ ನಾವೀನ್ಯತೆಯ ಮುಂಚೂಣಿಯಲ್ಲಿದೆ. ಇದರ ವಿಶಿಷ್ಟ ವಾಸ್ತುಶಿಲ್ಪ ಮತ್ತು ಅಸಾಧಾರಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ವೈವಿಧ್ಯಮಯ ಕೈಗಾರಿಕೆಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರಗತಿಗೆ ದಾರಿ ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತವೆ, ಪ್ರಗತಿಯನ್ನು ಚಾಲನೆ ಮಾಡುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಭವಿಷ್ಯವನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತವೆ.