ಸ್ಫಟಿಕ ಸಮತಲಗಳು ಮತ್ತು ಸ್ಫಟಿಕ ದೃಷ್ಟಿಕೋನದ ನಡುವಿನ ಸಂಬಂಧ.

4. ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳು

ಸಿಲಿಕಾನ್-ಆಧಾರಿತ ಅರೆವಾಹಕ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ, ಸ್ಫಟಿಕ ದೃಷ್ಟಿಕೋನ ಮತ್ತು ಸ್ಫಟಿಕ ಸಮತಲಗಳನ್ನು ಹಲವು ಅಂಶಗಳಲ್ಲಿ ಅನ್ವಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ:

ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆ: ಅರೆವಾಹಕ ಸ್ಫಟಿಕಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸ್ಫಟಿಕ ದೃಷ್ಟಿಕೋನಗಳಲ್ಲಿ ಬೆಳೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ. ಸಿಲಿಕಾನ್ ಸ್ಫಟಿಕಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ [100] ಅಥವಾ [111] ದೃಷ್ಟಿಕೋನಗಳಲ್ಲಿ ಬೆಳೆಯುತ್ತವೆ ಏಕೆಂದರೆ ಈ ದೃಷ್ಟಿಕೋನಗಳಲ್ಲಿನ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಪರಮಾಣು ಜೋಡಣೆಯು ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆಗೆ ಅನುಕೂಲಕರವಾಗಿರುತ್ತದೆ.

ಎಚ್ಚಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ: ಆರ್ದ್ರ ಎಚ್ಚಣೆಯಲ್ಲಿ, ವಿಭಿನ್ನ ಸ್ಫಟಿಕ ಸಮತಲಗಳು ವಿಭಿನ್ನ ಎಚ್ಚಣೆ ದರಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಸಿಲಿಕಾನ್‌ನ (100) ಮತ್ತು (111) ಸಮತಲಗಳ ಮೇಲಿನ ಎಚ್ಚಣೆ ದರಗಳು ಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತವೆ, ಇದು ಅನಿಸೊಟ್ರೊಪಿಕ್ ಎಚ್ಚಣೆ ಪರಿಣಾಮಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ.

ಸಾಧನದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು: MOSFET ಸಾಧನಗಳಲ್ಲಿನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಚಲನಶೀಲತೆಯು ಸ್ಫಟಿಕ ಸಮತಲದಿಂದ ಪ್ರಭಾವಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ವಿಶಿಷ್ಟವಾಗಿ, (100) ಸಮತಲದಲ್ಲಿ ಚಲನಶೀಲತೆ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಅದಕ್ಕಾಗಿಯೇ ಆಧುನಿಕ ಸಿಲಿಕಾನ್-ಆಧಾರಿತ MOSFETಗಳು ಪ್ರಧಾನವಾಗಿ (100) ವೇಫರ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸುತ್ತವೆ.

ಸಂಕ್ಷಿಪ್ತವಾಗಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಸ್ಫಟಿಕ ಸಮತಲಗಳು ಮತ್ತು ಸ್ಫಟಿಕ ದೃಷ್ಟಿಕೋನಗಳು ಸ್ಫಟಿಕಶಾಸ್ತ್ರದಲ್ಲಿ ಸ್ಫಟಿಕಗಳ ರಚನೆಯನ್ನು ವಿವರಿಸಲು ಎರಡು ಮೂಲಭೂತ ಮಾರ್ಗಗಳಾಗಿವೆ. ಸ್ಫಟಿಕ ದೃಷ್ಟಿಕೋನವು ಸ್ಫಟಿಕದೊಳಗಿನ ದಿಕ್ಕಿನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಸ್ಫಟಿಕ ಸಮತಲಗಳು ಸ್ಫಟಿಕದೊಳಗಿನ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸಮತಲಗಳನ್ನು ವಿವರಿಸುತ್ತವೆ. ಈ ಎರಡು ಪರಿಕಲ್ಪನೆಗಳು ಅರೆವಾಹಕ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ನಿಕಟ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿವೆ. ಸ್ಫಟಿಕ ಸಮತಲಗಳ ಆಯ್ಕೆಯು ವಸ್ತುವಿನ ಭೌತಿಕ ಮತ್ತು ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ನೇರವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಸ್ಫಟಿಕ ದೃಷ್ಟಿಕೋನವು ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆ ಮತ್ತು ಸಂಸ್ಕರಣಾ ತಂತ್ರಗಳ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುತ್ತದೆ. ಸ್ಫಟಿಕ ಸಮತಲಗಳು ಮತ್ತು ದೃಷ್ಟಿಕೋನಗಳ ನಡುವಿನ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಅರೆವಾಹಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾಗಿಸಲು ಮತ್ತು ಸಾಧನದ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ.